Регистрация Вспомнить пароль


Конференция «Современные тенденции в промышленной очистке деталей»

В современном мире высокотехнологичного производства нельзя оставлять без внимания такой важный технологический процесс, как очистка деталей от промышленных загрязнений после изготовления или между технологическими операциями. Современные производители, следуя мировой тенденции повышения эффективности производства, все чаще оказываются перед нелегким выбором технологичного оборудования для промышленной очистки и задачей по организации эффективного процесса очистки. Как очистить деталь сложной конфигурации? Как обеспечить экологичность и безопасность процесса очистки? Какое оборудование для очистки и мойки деталей самое эффективное? Наша конференция даст ответы на эти и другие актуальные вопросы в области промышленной очистки деталей.

Уважаемые коллеги!

25 ноября 2014 года Группа компаний Остек приглашает вас принять участие в конференции «Современные тенденции в промышленной очистке деталей».

Основная цель конференции – познакомить участников с оборудованием и жидкостями для промышленной очистки, рассказать о самых современных решениях в области промышленной очистки деталей от загрязнений, а также поделиться опытом передовых зарубежных производств.

Рассматриваемые вопросы: 

Участие в конференции бесплатное.

Место проведения:

Москва, офис Группы компаний Остек, ул. Молдавская, д 5. стр. 2.

Время проведения:

с 09:00 до 16:00, начало регистрации в 9:30.

Вы можете зарегистрироваться на мероприятие любым из представленных ниже способов:

*При регистрации по электронной почте и факсу указывайте: название мероприятия, Ф.И.О., должность, название предприятия и контактный телефон.

Заявки на участие принимаются до 21 ноября 2014 г.

Будем рады видеть вас и ваших коллег в числе участников конференции!

undefined
ПРОГРАММА СЕМИНАРА

Время

Длит., мин

Тема

9:30 – 10:00

30

Регистрация участников

10:00 – 10:15

15

Вступительное слово

Вячеслав Ковенский

ГК Остек

10:15 – 10:35

20

Современные тенденции в промышленной очистке деталей в России

Алексей Стахуров

ГК Остек

10:35 – 11:15

40

Презентация компании и оборудования для промышленной очистки

Фабио Кордаро

Amsonic

11:15 – 11:30

15

Кофе-пауза

11:30 – 12:10

40

Презентация компании и жидкостей для прецизионной очистки деталей

Олаф Шонфельд

Zestron

12:10 – 12:55

50

Обзор вакуумных систем очистки с применением модифицированных спиртов Zestron VD

Денис Поцелуев

ГК Остек

13:00 – 14:00

60

Обед

14:00 – 14:40

40

Обзор ультразвуковых и струйных систем для промышленной очистки деталей

Фабио Кордаро

Amsonic

14:40 – 15:10

30

Жидкости на водной основе: современные решения в промышленной очистке

Томас Мюллер

Zestron

15:10 – 15:40

30

Вопросы и ответы. Подведение итогов. Обратная связь

 

Место проведения:

Москва, офис Группы компаний Остек, ул. Молдавская, д 5. стр. 2.

Дата проведения:

25 Ноября 2014 — 25 Ноября 2014

Время работы:

9:00-16:00

Заявка на участие:

ФИО:
Должность:
+Добавить участника
Организация
Контактный телефон
Электронный адрес
Все поля обязательны для заполнения